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具有用于局部影响基座温度的器件的CVD反应器制造技术
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下载具有用于局部影响基座温度的器件的CVD反应器的技术资料
文档序号：30218055
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本发明涉及一种用于对基材进行热处理的设备和方法，设备具有可由加热装置(13)加热的和可由转动驱动器(20)围绕转动轴线(A)转动驱动的用于容纳至少一个基材的基座(5)。为了补偿转动的基座(5)上的局部的温度差异，设置有器件(14、14
该专利属于艾克斯特朗欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克斯特朗欧洲公司授权不得商用。
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