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本申请公开了一种清洗装置，属于半导体清洁技术领域，该清洗装置包括：壳体，所述壳体形成清洁腔室；定位机构，定位机构的夹持部设置在清洁腔室内，夹持部用于夹持待清洁件；出液单元，出液单元的出液口设置在清洁腔室内，出液口中流出的清洁液能够流至待清洁...
该专利属于山东天岳先进科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东天岳先进科技股份有限公司授权不得商用。

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