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一种下电极组件及化学气相沉积装置,其中,下电极组件包括:加热盘,具有凹陷于其表面的基片槽,所述基片槽的底部设有凸台,用于支撑基片,所述基片与基片槽的底部之间形成凹坑空间,所述基片槽的底部内设有若干个加热元件,所述基片槽的底部设有进气口,用于...该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。
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一种下电极组件及化学气相沉积装置,其中,下电极组件包括:加热盘,具有凹陷于其表面的基片槽,所述基片槽的底部设有凸台,用于支撑基片,所述基片与基片槽的底部之间形成凹坑空间,所述基片槽的底部内设有若干个加热元件,所述基片槽的底部设有进气口,用于...