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本实用新型公开了一种用于化学镀或清洗的装置。该装置包括槽体及可脱离地插设于所述槽体中的产品放置架，所述装置具有工作状态，当所述装置在所述工作状态时，所述产品放置架插设在所述槽体中，所述产品放置架的一侧形成第一腔体，所述产品放置架的另一侧形成...
该专利属于盛青永致半导体设备（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛青永致半导体设备（苏州）有限公司授权不得商用。

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