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药液、抗蚀剂图案的形成方法、半导体芯片的制造方法、药液收容体及药液的制造方法技术
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文档序号:30135729
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本发明提供一种作为预湿液使用时缺陷抑制性优异的药液。本发明还提供抗蚀剂图案的形成方法、半导体芯片的制造方法、药液收容体及药液的制造方法。本发明的药液含有环己酮及选自包括通式(1)所表示的化合物、通式(2)所表示的化合物及通式(3)所表示的化...
该专利属于富士胶片株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士胶片株式会社授权不得商用。
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