温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

根据本发明提供一种半导体制造设备用排气设备，包括用于从半导体制造设备的工艺腔室排出的废气流动的排气管；产生压力使所述废气在所述排气管流动的真空泵；及防止在所述排气管内沉积粉末的粉末沉积防止装置，其中，为了防止由于所述废气中所含的氨(NH3)...
该专利属于LOT真空股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过LOT真空股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。