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本实用新型涉及石墨烯制取设备技术领域，尤其是涉及一种制备腔室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备。制备腔室为密闭腔室，所述制备腔室包括主腔室和副腔室，所述主腔室的出口端和副腔室的进口端连通，所述制备腔室的部分底面向下凹陷形成液体气密池，且主腔...
该专利属于孙华所有，仅供学习研究参考，未经过孙华授权不得商用。

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