【技术实现步骤摘要】
一种制备腔室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备
[0001]本技术涉及石墨烯制取设备
，尤其是涉及一种制备腔室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备。
技术介绍
[0002]石墨烯即“单层石墨片”是碳晶体家族中的一位新成员，具有独特的单原子层二维晶体结构，集多种优异特性于一身。如超高的载流子迁移率、电导率、热导率、透光率、高强度等。
[0003]目前石墨烯的制备方法有：
[0004]1.固相法，固相法中又分机械剥离法和外延生长法两种；
[0005]2.液相法，液相法又分为氧化还原法、超声波分散法、有机合成法和溶剂热法等。
[0006]3.气相法，气相法又可以分为化学气相沉积法等离子增强法、火焰法、电弧放电法等。
[0007]经过对上述石墨烯所有制备方法进行梳理，对每种石墨烯的制备方法进行比较分析，发现只有化学气相沉积法最适合制备出高质量的石墨烯产品，但是化学气相沉积法在现实制取石墨烯中存在以下技术问题：
[0008]1：碳源性气体如甲烷、乙炔、液体如乙醇，必须在真空无氧环境下...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制备腔室，其特征在于，所述制备腔室为密闭腔室，所述制备腔室包括主腔室和副腔室，所述主腔室的出口端和副腔室的进口端连通，所述制备腔室的部分底面向下凹陷形成液体气密池，且主腔室出口端和副腔室的进口端均位于液体气密池的液位以下；所述副腔室的出口端设置有弹性气密组件。2.根据权利要求1所述的制备腔室，其特征在于，所述液体气密池包括相互套接刻蚀槽和清洗槽；所述清洗槽为制备腔室部分底面向下凹陷形成的结构；所述制备腔室内设置有隔板，该隔板将制备腔室分割成主腔室和副腔室；隔板其中一侧与清洗槽的侧壁构成主腔室的出口端，其另一侧与清洗槽的侧壁构成副腔室的进口端；隔板的下端插接在刻蚀槽中，且隔板下端位于刻蚀槽液位以下。3.根据权利要求2所述的制备腔室，其特征在于，所述刻蚀槽内设置有刻蚀剂，所述清洗槽内设置有去离子水；所述刻蚀槽的内表面，以及隔板的下端设置有防腐层。4.根据权利要求2所述的制备腔室，其特征在于，所述刻蚀槽内设置有超声波发生器。5.根据权利要求1所述的制备腔室，其特征在于，所述副腔室的出口端与弹性气密件闭连接的；所述弹性气密件上设置有传送带组件上设置有供传送带组件穿过的通...
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