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本实用新型公开了大宗特殊气体供应系统,涉及特殊气体供应技术领域,包括深度吹扫箱组和主供应柜,所述深度吹扫箱组和主供应柜通过气体管道连接起来,所述深度吹扫箱组为两套,所述每套深度吹扫箱组包括至少两个并联设置的深度吹扫箱,所述每个深度吹扫箱设有...该专利属于浙江东开半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江东开半导体科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了大宗特殊气体供应系统,涉及特殊气体供应技术领域,包括深度吹扫箱组和主供应柜,所述深度吹扫箱组和主供应柜通过气体管道连接起来,所述深度吹扫箱组为两套,所述每套深度吹扫箱组包括至少两个并联设置的深度吹扫箱,所述每个深度吹扫箱设有...