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一种清洁片，包括：清洁层和采用包括硅氧烷的释放剂处理的保护膜，保护膜在清洁层的至少一侧上被提供为分隔物，其中当从清洁层剥离分隔物时，按照聚二甲基硅氧烷计算，粘附到清洁层的硅氧烷的量为０．００５ｇ／ｍ↑［２］或更少。...
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