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一种衍射光学器件表面增透膜的镀膜方法技术
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文档序号:30019854
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本发明公开了一种衍射光学器件表面增透膜的镀膜方法,通过优化原子层沉积镀膜参数,获得衍射光学器件微结构表面共形生长的膜层镀膜工艺;以优化的镀膜参数,在光学抛光的测试基板上分别镀制高折射率膜层和低折射率膜层,利用椭圆偏振光谱方法确定膜层的光学常...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。
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