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一种硅片抛光后用中转装置,包括载有水液的放置槽以及在放置槽上设有用于支撑硅片的承载组件和用于向硅片单侧面喷液的喷液组件;承载组件被置于放置槽内侧并使硅片悬空设置,且承载组件带动硅片沿其高度方向调整位置;喷液组件贯穿放置槽且被置于承载组件围成...该专利属于天津中环领先材料技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过天津中环领先材料技术有限公司授权不得商用。
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一种硅片抛光后用中转装置,包括载有水液的放置槽以及在放置槽上设有用于支撑硅片的承载组件和用于向硅片单侧面喷液的喷液组件;承载组件被置于放置槽内侧并使硅片悬空设置,且承载组件带动硅片沿其高度方向调整位置;喷液组件贯穿放置槽且被置于承载组件围成...