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清洁方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置以及存储介质制造方法及图纸
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文档序号:29955556
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本发明提供能够提高处理室内的清洁效率的技术,该技术通过将依次进行以下工序的周期实施预定次数来除去附着于处理室内的堆积物:(a)在停止处理室内的排气的状态下,直至处理室内的压力上升到第一压力带为止向处理室内供给清洁气体;(b)同时进行处理室内...
该专利属于株式会社国际电气所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社国际电气授权不得商用。
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