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本实用新型涉及一种导电性金属熔融液输送装置、及导电性金属熔融液输送系统，将流槽的电阻值设定为比金属熔融液收纳空间收纳的对象导电性金属熔融液的电阻值大的值，在所述金属熔融液收纳空间中不存在所述对象导电性金属熔融液的非驱动状态下，使电流在从所述...
该专利属于高桥谦三所有，仅供学习研究参考，未经过高桥谦三授权不得商用。

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