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本发明公开了一种光刻胶母模的复制成型方法。本发明首先得到PDMS阴模和带微槽的PDMS基底，同时将PDMS基底置于等离子清洗机中进行清洗；其次使用打孔器在PDMS基底上打孔，并插入移液枪枪头，在限制性空间内注入光刻胶直至完全填充整个PDMS...
该专利属于中国计量大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国计量大学授权不得商用。

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