一种光刻胶母模复制成型方法技术

本发明专利技术公开了一种光刻胶母模的复制成型方法。本发明专利技术首先得到PDMS阴模和带微槽的PDMS基底，同时将PDMS基底置于等离子清洗机中进行清洗；其次使用打孔器在PDMS基底上打孔，并插入移液枪枪头，在限制性空间内注入光刻胶直至完全填充整个PDMS组合体的限制性空间；然后用固化灯照射后使光刻胶完全固化；最后剥离PDMS阴模，在PDMS基底上制得与原始光刻胶母模完全一致的复制母模。本发明专利技术可实现光刻胶母模的低成本、高效率、高保真的复制。高保真的复制。高保真的复制。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶母模复制成型方法


[0001]本专利技术属于微纳制造
，涉及一种光刻胶母模的复制成型方法。

技术介绍

[0002]自上世纪90年代出现微全分析系统的概念以来，以微流控芯片为代表的微全分析系统飞速发展，取得了令人瞩目的成就，在环境监测、食品安全、生物医药等领域展现了良好的发展前景。
[0003]为了适应不同领域的不同需求，玻璃、PDMS、热塑性材料成为最常用的微流控芯片制作材料，它们的物理化学性质能够满足大部分领域的需求。其中玻璃微流控芯片是采用MEMS技术结合氢氟酸湿法腐蚀来制造的，但是这种方法制造周期长，成本高，且涉及危化品，难以推广。而PDMS和热塑性材料类微流控芯片则以相对较低的制造成本和难度，博得了广泛的青睐。热塑性材料微流控芯片制造通常是先使用MEMS技术制造出模具，再通过热压法、注塑法和滚轮压印法来批量制造芯片。但是无论是热压还是注塑设备，价格都十分高昂。
[0004]PDMS微流控芯片采用软光刻技术来制造，是一种可以实现微型器件的快速原型制造的技术，是实验室研究和工业产品开发中最为常用的微流控芯片制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶母模复制成型方法，其特征在于该方法包括以下步骤：第一步，在光刻胶母模上浇铸PDMS前体与固化剂混合物，固化后得到PDMS阴模；第二步，制作一块带微槽的PDMS基底，将PDMS基底置于等离子清洗机中进行清洗；第三步，使用手持式PDMS芯片打孔器在PDMS基底上打孔，并插入移液枪枪头，然后将PDMS基底与PDMS阴模贴合，从而围合形成限制性空间，用于限定光刻胶的形状，保证光刻胶固化后的形状与光刻胶母模一致；第四步，将贴合完成的PDMS组合体放入真空腔室中做真空脱气处理；处理后的PDMS组合体能够不断吸收空气，使得限制性空间内形成负压，驱动光刻胶不断填充PDMS组合体内的限制性空间；第五步，光刻胶在内外压差的作用下，不断从移液枪进入限制性空间，直至完...

【专利技术属性】
技术研发人员：王安岩，陈强，陈俊杰，包福兵，
申请(专利权)人：中国计量大学，
类型：发明
国别省市：