专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
湖北高碳光电科技有限公司
>
基于六芳基联咪唑分子开关的紫外正性光刻胶及使用方法技术
>技术资料下载
下载基于六芳基联咪唑分子开关的紫外正性光刻胶及使用方法的技术资料
文档序号:29926400
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明属于微电子加工材料技术领域,更具体地,涉及一种基于六芳基联咪唑分子开关的紫外正性光刻胶及使用方法。其包括含低聚物二元醇、官能化的六芳基联咪唑分子开关交联剂以及自由基淬灭剂的A胶和包含催化剂和二异氰酸酯的B胶。利用该光刻胶进行光刻时,该...
该专利属于湖北高碳光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过湖北高碳光电科技有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。