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薄膜形成装置制造方法及图纸
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文档序号:29922938
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本申请公开一种低折射率薄膜形成装置,包括:用于容纳基板的真空成膜室;用于向所述真空成膜室导入气体的导入机构;用于在所述真空成膜室中形成等离子体的等离子源;所述等离子源能在所述基板上利用所述气体进行等离子体化学气相沉积成膜。本申请所公开的薄膜...
该专利属于株式会社新柯隆所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社新柯隆授权不得商用。
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