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本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，能够在减少微粒等异物的残留的同时获得抗蚀膜的较高去除率。以处理面(S1)与转台(14)的上表面隔开规定间隔且处理面(S1)朝下的姿势将基板(11)固定在壳体(12)内的转台(14)上。在基板(11)...
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