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共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置制造方法及图纸
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文档序号:29756037
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本发明公开了一种共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置,该方法将激光器发出的激光光束的相位调制成0‑2nπ涡旋相位,其中n>3;将调制后的光束与共聚焦扫描显微镜的物镜入瞳共轭,使得物镜的聚焦光斑为空心光斑,且空心光斑内环半径大于不进行相位调制时...
该专利属于浙江大学所有,仅供学习研究参考,未经过浙江大学授权不得商用。
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