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具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法技术
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文档序号:29610050
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本发明公开了一种具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法,具有牺牲层的镀腔内壁构件,包括镀腔内壁构件和形成于所述镀腔内壁构件表面的牺牲层,所述牺牲层在清洗过程中被去除。对被杂质层污染后的所述具有牺牲层的镀腔内壁构件用酸清洗剂进行清洗...
该专利属于深圳仕上电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳仕上电子科技有限公司授权不得商用。
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