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磁性流体技术美国公司
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用于电子束源涂覆的坩埚盖制造技术
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下载用于电子束源涂覆的坩埚盖的技术资料
文档序号:29599686
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盖结构包括用于覆盖电子束源组合件内的坩埚的至少两个部件。盖包括盖体和在盖体被升高和降低时将与盖体分开并由盖体承载的盖嵌件。该结构还使盖嵌件能降低到直到承靠在坩埚上为止。在盖嵌件与坩埚之间接触时,盖嵌件可部分地与盖体分离,从而使盖体能稍微进一...
该专利属于磁性流体技术(美国)公司所有,仅供学习研究参考,未经过磁性流体技术(美国)公司授权不得商用。
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