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本发明的课题在于提供用于高敏感度光刻技术的交联型聚合物。本发明的解决手段为：本发明的在显影液中的溶解性因酸的作用而改变的抗蚀剂用交联型聚合物中，具有聚合物中的至少一部分酚羟基被以下的式(1)表示的基团保护的结构，并且，具有聚合物中的至少一部...
该专利属于丸善石油化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过丸善石油化学株式会社授权不得商用。

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