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本发明实施例公开了一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及存储介质，涉及显示技术领域。其中，掩膜版图生成方法，包括：获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息，获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数，根据生产线信息获取对应生...
该专利属于TCL华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过TCL华星光电技术有限公司授权不得商用。

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