【技术实现步骤摘要】
掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及存储介质
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质。
技术介绍
在显示
，原理图的绘制、版图的绘制、技术评估，以及设计规则检查(DRC，DesignRuleCheck)等是显示面板设计必不可少的步骤。其中，在显示面板设计过程中，都会涉及到掩膜(mask)版图设计。目前的掩膜版图设计需要人工来进行设计。由于显示面板的产品规格多，每个产品所涉及的掩膜较复杂，且存在差异，人工设计掩膜版图的方式需要耗费大量的人力物力，且很容易出错，导致掩膜版图设计的效率非常低。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及计算机可读存储介质，可自动生成掩膜版图，提高设计掩膜版图的效率。本专利技术实施例提供了一种掩膜版图生成方法，包括：获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；根据所述生产线信息获取对应生产线上...
【技术保护点】
1.一种掩膜版图生成方法，其特征在于，包括：/n获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；/n获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；/n根据所述生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息；/n根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系；/n根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元；/n根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种掩膜版图生成方法，其特征在于，包括：
获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息；
获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数；
根据所述生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息；
根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系；
根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元；
根据所述基本构成单元生成目标掩膜版图。
2.根据权利要求1所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述初始掩膜信息包括初始掩膜模板信息，所述根据所述基板信息、所述初始掩膜信息、以及所述掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系的步骤，包括：
根据所述初始掩膜模板信息和所述掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息；
根据所述基板信息和确定了目标图案信息的初始掩膜模板信息，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，所述关系包括所述玻璃基板与所述目标图案信息之间的关系。
3.根据权利要求2所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述掩膜生成参数包括目标掩膜所对应的膜层，所述根据所述初始掩膜模板信息和所述掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息的步骤，包括：
从图案模板库中获取与所述膜层和所述特征信息匹配的目标图案模板；
根据所述初始掩膜模板信息和所述目标图案模板，确定所述初始掩膜模板上待生成的所述目标图案信息。
4.根据权利要求2所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述掩膜生成参数包括目标掩膜所对应的膜层和所述膜层所对应的掩膜生成规范，所述根据所述初始掩膜模板信息和所述掩膜生成参数，确定在初始掩膜模板上的目标图案信息的步骤，包括：
根据所述膜层和所述掩膜生成规范，生成掩膜图案信息；
将所述掩膜图案信息确定为所述初始掩膜模板上待生成的所述目标图案信息。
5.根据权利要求2所述的掩膜版图生成方法，其特征在于，所述特征信息包括所述产品的尺寸信息，所述根据所述特征信息和所述玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元的步骤，包括：
识别所述目标图案信息中的最小重复单元，将所述最小重复单元作为基本构成图案；
技术研发人员：陈小海，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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