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本实用新型提供了一种限制环、以及等离子体处理装置，通过在气体通道内设置非纵向弯折部，增大了等离子体与气体通道碰撞几率，有效的将等离子体限制在处理区域内，大大减小了深宽比，从而降低了气阻。...
该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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