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本发明涉及一种组合物，其包含基本上由钴离子组成的金属离子和包含羧酸、磺酸、亚磺酸、膦酸或次膦酸官能团的特定单体和聚合物抑制剂，其显示无空隙自下而上填充纳米大小的凹陷特征所需的抑制效果。...
该专利属于巴斯夫欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过巴斯夫欧洲公司授权不得商用。

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