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本发明提供一种通过优化分配多角度分步沉积时间提升薄膜均匀性的方法。该方法包括步骤，S1：将晶圆调整至n个不同的预设角度，在调整至各预设角度时，在保持晶圆静止的状态下进行气相沉积，以于晶圆表面沉积薄膜，并收集各角度下薄膜的特征参数以得到对应各...该专利属于上海陛通半导体能源科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海陛通半导体能源科技股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种通过优化分配多角度分步沉积时间提升薄膜均匀性的方法。该方法包括步骤，S1：将晶圆调整至n个不同的预设角度，在调整至各预设角度时，在保持晶圆静止的状态下进行气相沉积，以于晶圆表面沉积薄膜，并收集各角度下薄膜的特征参数以得到对应各...