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本实用新型公开了一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，支撑架，其顶部安装有反应罐，所述反应罐的顶部安装有反应盖，且反应盖的顶部安装有第一电机，所述反应罐的底部安装有椭圆封头；中心转轴，其与第一电机的输出轴连接，所述中心转轴的外部设置有搅拌架，...
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