一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，支撑架，其顶部安装有反应罐，所述反应罐的顶部安装有反应盖，且反应盖的顶部安装有第一电机，所述反应罐的底部安装有椭圆封头；中心转轴，其与第一电机的输出轴连接，所述中心转轴的外部设置有搅拌架，所述中心转轴的一侧设置有定桨搅拌；以及均质机，其由安装在椭圆封头底部的第二电机驱动。本实用新型专利技术所述的一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，通过主搅拌架与定桨搅拌以及刮板的设置，加上底部高速分散均质机的配合，不仅使搅拌结构能够稳定均匀的搅拌同时，通过结构可以使搅拌桨能够进行公转，实现均匀化全方面性的搅拌混合反应，在稳定混合反应的同时也提升了反应效率。

【技术实现步骤摘要】
一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置
本技术涉及搅拌装置领域，特别涉及一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置。
技术介绍
随着人们对手机等电子产品外观要求的提高，高光泽度镜面的电子产品不断的出现在大众的视野中，抛光蜡作为一种抛光耗材在电子产品的抛光中得到了广泛的应用，为了实现高镜面的抛光，在镜面加工中，抛光蜡的磨料需要达到纳米级的颗粒大小，因此在精抛蜡的制备中需要优选纳米磨料进行配制，在传统的抛光蜡制备中，抛光蜡的制备在具有加热和搅拌功能的设备中进行，但由于纳米粉体的高比表面积，纳米材料具有很强的团聚性能，普通的搅拌机无法对纳米磨料进行充分的分散，而团聚的纳米磨料在镜面的加工中，极易造成产品划伤，因此在使用纳米磨料制备抛光蜡过程中，需对纳米磨料进行充分的分散，打开纳米磨料的团聚，为此，我们提出一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，可以有效解决
技术介绍
中的问题。为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，包括：...

【技术保护点】
1.一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，其特征在于，包括：/n支撑架(1)，其顶部安装有反应罐(2)，且反应罐(2)的底部设有用于排料的放料口(14)，所述反应罐(2)的顶部安装有与其相配合的反应盖(3)，且反应盖(3)的顶部安装有第一电机(5)，所述反应罐(2)的底部安装有椭圆封头(16)；/n中心转轴(6)，其与第一电机(5)的输出轴连接，所述中心转轴(6)的外部设置有搅拌架(8)，且搅拌架(8)的侧翼连接有刮板(9)，所述中心转轴(6)的一侧设置有与反应盖(3)连接的定桨搅拌(7)；以及/n均质机(17)，其安装在椭圆封头(16)的内部，并由安装在椭圆封头(16)底部的第二电机(15)驱...

【技术特征摘要】
1.一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，其特征在于，包括：
支撑架(1)，其顶部安装有反应罐(2)，且反应罐(2)的底部设有用于排料的放料口(14)，所述反应罐(2)的顶部安装有与其相配合的反应盖(3)，且反应盖(3)的顶部安装有第一电机(5)，所述反应罐(2)的底部安装有椭圆封头(16)；
中心转轴(6)，其与第一电机(5)的输出轴连接，所述中心转轴(6)的外部设置有搅拌架(8)，且搅拌架(8)的侧翼连接有刮板(9)，所述中心转轴(6)的一侧设置有与反应盖(3)连接的定桨搅拌(7)；以及
均质机(17)，其安装在椭圆封头(16)的内部，并由安装在椭圆封头(16)底部的第二电机(15)驱动。


2.根据权利要求1所述的一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，其特征在于：所述第一电机(5)的输出轴穿过反应盖(3)表面开设的凹槽(4)、并与位于反应罐(2)内部的中心转轴(6)连接。


3.根据权利要求1所述的一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，其特征在于：所述定桨搅拌(7)外部的叶片与中心转轴(6)外部...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪福安，
申请(专利权)人：东莞市鸿昱精密电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44