温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种半导体晶片氧化炉，属于半导体生产技术领域。一种半导体晶片氧化炉，包括第一安装箱，所第一安装箱内开设有第一安装腔、第二安装腔和第三安装腔，所述第一安装腔内固定连接有氧化箱，所述氧化箱内滑动连接有放置板，所述氧化箱的输出端固定连...
该专利属于高兵所有，仅供学习研究参考，未经过高兵授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。