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本实用新型公开了一种硅片用链式抛光装置，包括滚轮、以及设置在滚轮传送方向上的碱抛区、第一水洗区、酸洗区、第二水洗区、喷淋区、烘干区、滚轮区、皮带传送区及下料区；所述烘干区和滚轮区设置有翻转机构，所述翻转机构包括驱动装置、两侧的第一支架、设置...
该专利属于常州时创能源股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州时创能源股份有限公司授权不得商用。

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