【技术实现步骤摘要】
一种硅片用链式抛光装置
本技术涉及一种硅片用抛光装置,具体涉及一种硅片用链式抛光装置。
技术介绍
现有的链式抛光设备,硅片背面抛光后,抛光面非常光滑,其表面粗糙度<1um,若抛光面在传送过程中接触到残液、滚轮或皮带上的灰尘和脏污,则容易因为静电吸附力吸附灰尘、脏污等,导致抛光片受到污染,最终使得太阳能电池片的EL黑斑率上升,不良品比例增加。
技术实现思路
专利技术目的:本技术的目的是提出一种硅片用链式抛光装置,能够避免硅片抛光面受到污染,提高抛光面的表面质量。技术方案:本技术所采用的技术方案是一种硅片用链式抛光装置,包括滚轮、以及设置在滚轮传送方向上的碱抛区、第一水洗区、酸洗区、第二水洗区、喷淋区、烘干区、滚轮区、皮带传送区及下料区;所述烘干区和滚轮区设置有翻转机构,所述翻转机构包括驱动装置、两侧的第一支架、设置在两侧第一支架之间的多个翻转页。进一步地,所述驱动装置包括传动马达和齿轮组。进一步地,所述相邻两个翻转页之间的夹角可以为30°、45°或60°。进一步地,所述 ...
【技术保护点】
1.一种硅片用链式抛光装置,包括滚轮(1)、以及设置在滚轮(1)传送方向上的碱抛区、第一水洗区、酸洗区、第二水洗区、喷淋区、烘干区、滚轮区、皮带传送区及下料区;其特征在于:所述烘干区和滚轮区设置有翻转机构(2),所述翻转机构(2)包括驱动装置、两侧的第一支架(7)、设置在两侧第一支架(7)之间的多个翻转页(8)。/n
【技术特征摘要】
1.一种硅片用链式抛光装置,包括滚轮(1)、以及设置在滚轮(1)传送方向上的碱抛区、第一水洗区、酸洗区、第二水洗区、喷淋区、烘干区、滚轮区、皮带传送区及下料区;其特征在于:所述烘干区和滚轮区设置有翻转机构(2),所述翻转机构(2)包括驱动装置、两侧的第一支架(7)、设置在两侧第一支架(7)之间的多个翻转页(8)。
2.根据权利要求1所述的一种硅片用链式抛光装置,其特征在于:所述驱动装置包括传动马达(9)和齿轮组(10)。
3.根据权利要求1所述的一种硅片用链式抛光装置,其特征在于:所述相邻两个翻转页(8)之间的夹角可以为30°、45°或60°。
4.根据权利要求1所述的一种硅片用链...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈其成,裴银强,陈培良,
申请(专利权)人:常州时创能源股份有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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