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本发明公开了一种用于单晶硅片表面抛光的抛光液，包括如下重量份的组分：磨料20份‑60份；表面活性剂0.1份‑1份；金属螯合剂0.1份‑1份；pH值调节剂0.01份‑3份；水50份‑80份；其中，所述磨料为以铝包覆硅的包覆型复合磨料。本发明的...
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