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本发明公开了一种1吋锗加工片的抛光方法，所用抛光液中的氯含量5.5～6.0g/L，pH值为10.0～10.2；抛光为先粗抛、后精抛，粗抛时，陶瓷盘和大盘的转速均为38～42rpm，抛光液的喷洒量为1500‑2000ml/min；精抛时，陶瓷...
该专利属于中锗科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中锗科技有限公司授权不得商用。

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