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本发明公开了一种足浴器的清洗机构，涉及足浴桶排水装置，包括盆体底部的第一腔体、第二腔体，腔体对应的底平面为第一平面、第二平面，两腔体底面平行且两底面设置坡度引流，第二腔体设置引流锥面，第二平面最低处设置排水口。清洗机构还包括盆体后侧外壁上固...
该专利属于徐肖瑛所有，仅供学习研究参考，未经过徐肖瑛授权不得商用。

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