【技术实现步骤摘要】
一种足浴器的清洗机构及足浴器
本专利技术涉及足浴器
，尤其涉及一种足浴器的清洗机构及足浴器。
技术介绍
由于足浴器的内部较为复杂，零部件众多，通常有若干腔体，底平面凹凹凸凸且排水口还不在最低位，而使用波纹软管作为排水管，当波纹管被收纳时，管内螺纹糟的残留水又重回到足浴器内。虽然人力翻转足浴器能排干净残留水，但对桶内凹凸不平的结构及波纹管內日积月累所遗留的污垢是无法去除的。污垢滋生细菌，令后续使用发生感染，而足浴器的足部使用温度范围又促使细菌繁殖。上述内容仅用于辅助理解本专利技术的技术方案。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种不影响足浴器的使用功能、且具有清洗机构的足浴器。为实现上述目的，本专利技术提供了一种足浴器的清洗机构，涉及到足浴桶的残留水排水装置，包括盆体及底部的凹腔。所述盆体将被分为第一腔体及第二腔体，对应的底平面为第一平面、第二平面，所述第一平面与所述第二平面底面平行并形成从后侧至前侧高度依次降低的斜面，在第二平面最低处设置有排水口，实现足浴器坡度...
【技术保护点】
1.一种足浴器的清洗机构，涉及到足浴桶1的残留水排水装置，包括盆体，其特征在于，在所述盆体的底部设置第一腔体2、第二腔体3，对应的底平面第一平面6、第二平面7，所述的两腔体底面平行且两底面设置坡度引流斜面，在所述第二平面7最低处设置有排水口8。/n
【技术特征摘要】
1.一种足浴器的清洗机构，涉及到足浴桶1的残留水排水装置，包括盆体，其特征在于，在所述盆体的底部设置第一腔体2、第二腔体3，对应的底平面第一平面6、第二平面7，所述的两腔体底面平行且两底面设置坡度引流斜面，在所述第二平面7最低处设置有排水口8。
2.如“权利要求1”所述的一种足浴器的清洗机构，其特征在于，所述的第二腔体3对应所述第二平面7前端面为弧形面或斜面，即引流锥面，所述的排水孔8位于所述引流锥面的中心位置，足浴水、包括清洗水均被引流到所述的排水口8，经排水三通从带阀接头排出。
3.如“权利要求1”所述的一种足浴器的清洗机构，其特征在于，所述盆体的后侧外壁上固定安装奶嘴三通，所述的奶嘴三通与相配的快速接头构成可拆卸连接，所述的快速接头与球阀接头、PVC软管等组成外部注水装置，所述外部注水装置另一端连接自来水。
4.如“权利要求1”或“权利要求3”所述的一种足浴器的清洗机构，其特征在于，所述的奶嘴三通岀水口连接脉冲电磁铁水阀(1)进水口，所述的脉冲电磁铁水阀(1)岀水口连接水管，通过所述水管向三叉旋转喷头供水，在水力作用下，所述的三叉旋转喷头自动旋转喷洒，控制所述的脉冲电磁铁水阀(1)的开、关，即控制所述的三叉旋转喷头对所述的盆体周壁清洗。
5.如“权利要求1”或“权利要求4”所述的一种足浴器的清洗机构，其特征在于，所述的水管密封首先由支架与弹簧座胶结固定安装在活动防尘盖下方，所述的弹簧座内活动安装密封橡胶圈、垫片，并由弹簧压紧，所述的弹簧座与闷盖螺纹固定连接，在所述的弹簧与水压共同作用下达到所述的水管在清洗过程中密封要求。
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