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本发明的一种磁控溅射平面阴极装置，包含磁体组和磁轭，所述磁体组包括三套磁体组，分别是直道区磁体组、过渡区磁体组及环形区磁体组，过渡区磁体组衔接直道区磁体组和环形区磁体组；所述直道区磁体组和过渡区磁体组分别包含一组中心磁铁和两组外侧磁铁，环形...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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