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一种MOCVD反应室及其应用制造技术
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文档序号:29206819
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本发明公开了一种MOCVD反应室及其应用,该反应室包括反应室腔体(1)、上承载盘(2)、下承载盘(3)、氢化物气源进气口(4)、有机化合物气源进气口(5)、挡板(6)和出气口(7);其中,所述上承载盘(2)中还设有上加热丝;所述下承载盘(3...
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