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本实用新型公开了种适用于高温高湿度环境的低温等离子体除臭装置，包括处理框架，所述处理框架内依次设有降温段、干燥段、初级过滤段、低温等离子体处理段和末端过滤段；所述处理框架的两端分别开设有进风口和出风口，且处理框架接通离心风机。通过自制的板式...
该专利属于沈阳工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳工业大学授权不得商用。

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