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本发明公开了一种电解镀铜的铜处理装置及方法,该铜处理装置用于对待进行电镀的铜面面板进行预处理,所述铜面面板为经过干膜处理和显影处理的铜面面板,所述铜处理装置包括盛有硫酸的硫酸池,所述硫酸池中设置有用于产生臭氧的紫外线发光源,所述硫酸池中的硫...该专利属于鑫巨(深圳)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过鑫巨(深圳)半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种电解镀铜的铜处理装置及方法,该铜处理装置用于对待进行电镀的铜面面板进行预处理,所述铜面面板为经过干膜处理和显影处理的铜面面板,所述铜处理装置包括盛有硫酸的硫酸池,所述硫酸池中设置有用于产生臭氧的紫外线发光源,所述硫酸池中的硫...