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本发明涉及吸气剂制备技术领域，具体涉及一种利用AMAT PVD腔体制备吸气剂的方法及其薄膜吸气剂，包括如下步骤：步骤1、配备清洗硅片的腐蚀溶液，其中腐蚀溶液主要由NAOH和异丙醇溶液制成，备用；步骤2、将硅片按顺序依次放入丙酮、酒精和超纯水...
该专利属于上海松尚国际贸易有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海松尚国际贸易有限公司授权不得商用。

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