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本发明涉及一种蒸发冷却微结构的制备方法，包括以下步骤：在基片上表面电沉积一层第一金属，形成沉积层；将沉积层的表面进行精密抛磨，同时，保证一定厚度的沉积层；经抛磨后的沉积层表面涂覆一层光刻胶；将基片放置在光刻机载物台上，用曝光掩膜板进行曝光；...
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