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一种硅片上料装置制造方法及图纸
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文档序号:29122866
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本实用新型公开一种硅片上料装置,包括:基座;多块挡板,挡板安装在基座上,且挡板围绕形成上端开口的装配区;两条滑行槽,滑行槽分别设置在装配区相对的两侧面上;滑行单元,滑行单元安装在基座上,且滑行单元与滑行槽相配合;驱动单元,驱动单元安装在所述...
该专利属于扬州虹扬科技发展有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过扬州虹扬科技发展有限公司授权不得商用。
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