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光刻掩模版特征线宽均一性预补偿技术属于微细工程领域，提高光刻掩模版特征线宽均一性。技术要点：１．设计标准版。将光刻掩模版（１）的图形区域（２）划分成大小不等的子区域（３）。每个子区域里（３）设计Ｌ形的特征线宽（４）。２．获取特征线宽均一性畸...该专利属于上海光刻电子科技有限公司;粟鹏义所有，仅供学习研究参考，未经过上海光刻电子科技有限公司;粟鹏义授权不得商用。
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光刻掩模版特征线宽均一性预补偿技术属于微细工程领域，提高光刻掩模版特征线宽均一性。技术要点：１．设计标准版。将光刻掩模版（１）的图形区域（２）划分成大小不等的子区域（３）。每个子区域里（３）设计Ｌ形的特征线宽（４）。２．获取特征线宽均一性畸...