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本发明涉及抛光技术领域，公开了一种抛光设备，包括抛光工位和第一转接工位，抛光工位包括第一上下料区、第一抛光区、第二上下料区和第二抛光区，抛光工位上设置有转盘、抛光盘、抛光头和抛光盘清洗机构，两个抛光头分别设置在第一抛光区和第二抛光区处，两个...
该专利属于浙江芯晖装备技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江芯晖装备技术有限公司授权不得商用。

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