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基于半导体基底飞秒光制备微纳结构实现超疏水功能的方法技术
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下载基于半导体基底飞秒光制备微纳结构实现超疏水功能的方法的技术资料
文档序号:29121171
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基于半导体基底飞秒光制备微纳结构实现超疏水功能的方法,属于表面改性技术领域。包括以下步骤:采用热蒸镀法或磁控溅射法在半导体材料表面镀金属膜;利用飞秒激光加工技术通过在半导体金属镀膜表面制备微纳结构,提高半导体表面粗糙度,进而形成复合界面,在...
该专利属于北京工业大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京工业大学授权不得商用。
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