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本发明涉及一种提高硅片表面清洗能力的洗净装置及其控制方法，所属硅片洗净设备技术领域，包括清洗槽，所述的清洗槽上方设有上机架，所述的清洗槽内设有清洗组件，所述的清洗组件与上机架间设有升降气缸，所述的升降气缸与上机架间设有旋转电机。所述的清洗组...
该专利属于杭州中欣晶圆半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州中欣晶圆半导体股份有限公司授权不得商用。

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