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本实用新型提供了一种等离子体处理装置，包括移动环以及与移动环固定连接的调节环，调节环可以跟随移动环升降，不会阻挡传片通道，调节环可以改变等离子体的反应速率，改善基片边缘的刻蚀均匀性，防止污染物颗粒回流产生刻蚀不良，还包括与移动环连接的间隔环...
该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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