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本发明提供一种提高光刻设备对准性能的方法及装置，其能够根据产品特性提供最佳的对准光源类型进行对准处理，提高了产品的套刻性能及降低晶圆良率损失，提高生产效率。提高生产效率。提高生产效率。
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该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

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